【财联社】【三星据称将采用台积电工艺生产英伟达定制HBM底层芯片】 市场消息称,三星将采用台积电3纳米工艺,为英伟达下一代定制高带宽内存NVHBM生产底层逻辑芯片。英伟达据称要求三星、SK海力士及美光统一采用台积电工艺生产底层芯片,并采用第六代10纳米级DRAM工艺生产存储核心芯片。
锴威特拟收购晶艺半导体 100%股权,交易涉及发行股份及募集资金,需关注后续审批进展及市场反应。
拟通过发行股份及支付现金的方式向易坤等