【拓荆科技吕光泉：摩尔定律和韬定律协同发展 突破系统性能边界】在今日举行的2026半导体生态发展大会暨上海院士专家创新大会上，拓荆科技董事长吕光泉表示，摩尔定律和韬定律协同发展，突破系统性能边界。当前先进制程与先进封装呈同步推进态势，摩尔定律仍沿着FinFET、GAA到CFET的技术路径持续推进。为解决这一路径的成本问题，先进封装在不同阶段、不同功能芯片上被导入，可大幅提升芯片间通讯带宽并优化功耗。